热电(TE)材料能够直接将热能转化为电能,是一种符合可持续发展原则的有前景的技术[[1], [2], [3]]。TE性能通常通过无量纲优值zT = (S2σ)/κT来评估,其中T表示绝对温度,S表示塞贝克系数(Seebeck coefficient),σ表示电导率,κ表示总热导率。κ主要由两部分组成:晶格热导率(κl)和电子热导率(κe)[[4], [5], [6]]。因此,提高zT依赖于电输运特性的协同优化和有效抑制κl[[7], [8], [9]]。
在各种TE材料中,n型ZrNiSn基半赫斯勒(HH, XYZ)合金因其优异的电输运性能和出色的机械强度而受到了广泛的研究关注[10]。然而,它们高度对称的晶体结构和强原子键合导致其固有的κ值较高,约为5–10 W m?1 K?1,这限制了TE性能的进一步提升。Chauhan等人引入过量的Ni占据间隙位点,增加了Ni/空位反位缺陷,并促进了HH基体中全赫斯勒(FH, XY2Z)结构的形成,从而协同优化了电输运和热输运性能[11]。类似地,在我们之前的研究中,引入过量的Ag替代Ni并占据间隙位点,增加了Ag间隙缺陷的密度并形成了FH纳米沉淀物,使得ZrNiAg0.01Sn在923 K时的zT值为0.72[12]。然而,仅在Ni位点掺杂过量的Ag不足以完全优化ZrNiSn合金的热电性能。
与Ni位点掺杂相比,Zr位点的改性长期以来一直被认为是优化HH合金热电性能的核心策略,包括Zr缺失[13]、Zr过量掺杂[14]和元素合金化[15]等方法。其中,Zr位点的元素合金化是一种较为普遍的调节热电输运性能的方法。例如,与Hf和Ni共合金化可以在773 K时使Zr0.66Hf0.34Ni1.1Sn的κl降至1.26 W m?1 K?1[16]。虽然Hf合金化能有效降低κl,但Hf原材料的高成本限制了其实用性。因此,开发高性能的无铪HH合金一直是重要的研究重点。尽管Ta掺杂可以有效增加载流子浓度(nH[17],但它同样存在高成本的问题,且Ta和Zr原子之间的较大原子质量差异会加剧载流子散射。相比之下,Nb的原子质量和离子半径与Zr相当。单次Nb掺杂可以在不显著降低载流子迁移率(μH)的情况下提高nH,从而改善电输运性能[18]。同时,单次Ti或V掺杂对ZrNiSn热电性能的影响仍需进一步探索[19,20]。除了元素合金化外,引入Zr缺失还会产生晶格空位和点缺陷,这些缺陷会引起局部应变场波动和相关的电子态。例如,在p型ZrCoSb中减少Zr含量会引入大量空位和Zr/Sb反位缺陷,使973 K时的zT值提升至0.81[13]。Zr空位还会导致局部晶格软化,从而增强点缺陷的声子散射,正如ZrNiBi中实现的极低κl(1.4 W m?1 K?1所示[21]。然而,这种局部无序虽然可以增强声子散射,但往往会在一定程度上损害载流子输运[13]。在这种情况下,精确调控局部有序结构对于同时优化电子和声子输运至关重要,尤其是在引入多尺度缺陷以增强声子散射时。基于上述分析,与Hf、Ta、V和Ti等元素相比,Nb因其优越的掺杂特性和在原子尺寸和质量上的兼容性,成为构建ZrNiAg0.01Sn合金中局部有序结构的理想候选者。通过采用Zr缺失和Nb掺杂的双重策略,并结合过量Ag的调控,本研究揭示了局部有序/无序结构异质性对载流子输运调控的内在机制,为设计高性能ZrNiSn合金提供了新的理论视角。
在这项工作中,基于我们之前关于过量Ag掺杂(ZrNiAg0.01Sn)的研究[12],我们系统地比较了Zr缺失和Nb掺杂对Zr1-xNiAg0.01Sn和Zr1-yNbyNiAg0.01Sn(x/y = 0, 0.02, 0.04, 0.06)热电性能的影响。如图1a所示,Zr缺失引入了导带内能级,而Nb掺杂减小了带隙(Eg);这两种方法都细化了ZrNiSn合金的晶粒尺寸。值得注意的是,Zr缺失导致局部无序,而Nb掺杂促进了局部有序,并有效提高了μH。结果,在923 K时,Zr0.98Nb0.02NiAg0.01Sn的功率因子(PF)达到了5.46 mW m?1 K?2。通过电学和热学性质的协同优化,Zr0.96NiAg0.01Sn和Zr0.98Nb0.02NiAg0.01Sn在923 K时的峰值zT分别达到了0.88和1.05。Zr0.98Nb0.02NiAg0.01Sn的最大zT(zTmax)在已报道的无铪和低铪ZrNiSn基HH合金中名列前茅,如图1b所示[11,14,[16], [17], [18], [20],[22], [23], [24], [25], [26], [27], [28], [29], [30], [31], [32], [33], [34]]。此外,这两种材料的维氏硬度和杨氏模量也显著高于其他典型的TE材料(图1c)[[35], [36], [37], [38], [39], [40], [41], [42], [43], [44], [45], [46]]。本研究表明,局部结构设计为开发高性能、成本效益高的ZrNiSn基TE材料提供了可行的策略,有助于其实际商业化。