关于栅极连接的鳍形p-NiO GaN HEMT中电荷平衡与动态空穴注入的分析研究

《Micro and Nanostructures》:Analytical Research on Charge Balance and Dynamic Hole Injection in Gate-Connected Fin-shaped p-NiO GaN HEMTs

【字体: 时间:2026年04月29日 来源:Micro and Nanostructures 3

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  徐茹 | 王秀萍 | 徐诺 | 张瑞豪 | 赵建国 | 程志群南京信息科学大学集成电路学院,中国南京 210044摘要为了解决GaN HEMT中击穿电压(BV)与特定导通电阻(RON,sp)之间的权衡问题以及动态开关不稳定性问题,本研究将一种类超结结构的GaN HEMT与具有嵌入

  
徐茹 | 王秀萍 | 徐诺 | 张瑞豪 | 赵建国 | 程志群
南京信息科学大学集成电路学院,中国南京 210044

摘要

为了解决GaN HEMT中击穿电压(BV)与特定导通电阻(RON,sp)之间的权衡问题以及动态开关不稳定性问题,本研究将一种类超结结构的GaN HEMT与具有嵌入式p-GaN(E-pGaN)结构的GaN HEMT进行了对比。该设计采用Fin形p-NiO(Fin-pNiO)减表面电场(RESURF)结构,并采用了简化的磁控溅射工艺,避免了E-pGaN所需的二次外延过程。分析建模表明,该器件采用了垂直场板配置,使得电荷平衡与横向通道宽度无关。因此,该结构克服了E-pGaN器件的几何限制。最终,优化后的器件实现了1400 V的BV和0.67 mΩ·cm2的最小RON,sp,功率优值为2.92 GW/cm2。此外,引入了栅极连接的双层策略,通过建立有效的空穴注入路径来解决浮动结构的动态失效问题。这一机制将空穴恢复过程转换为快速的栅极驱动过程,从而将导通延迟降至1 μs以下。最终,该设计同时实现了高静态效率和强动态可靠性。

引言

由于GaN HEMT具有宽禁带、高临界击穿电场(EF)和高电子迁移率等优异特性,在高频和高功率应用中展现出巨大潜力。然而,传统结构不仅受到击穿电压(BV)与特定导通电阻(' role="presentation">)之间的权衡限制,同时在栅极边缘还面临严重的EF拥挤问题。
为了解决这些问题,基于p型层的超结(SJ)和减表面电场(RESURF)概念已被广泛研究[1], [2], [3], [4], [5], [6], [7], [8], [9], [10], [11], [12], [13], [14], [15], [16], [17], [18], [19], [20],包括具有嵌入式p-GaN(E-pGaN)结构的类超结HEMT。尽管E-pGaN显著改善了EF分布,但它严重依赖于复杂的二次外延生长,这增加了制造成本和复杂性。相比之下,p型氧化镍(p-NiO)作为一种有前景的替代品应运而生。通过使用简化的磁控溅射工艺,p-NiO可以形成Fin形p-NiO(Fin-pNiO)结构,这种方法避免了二次外延,同时提供了优异的工艺兼容性[21], [22], [23], [24], [25], [26], [27], [28], [29], [30], [31]。
然而,对于E-pGaN和Fin-pNiO器件来说,动态不稳定性仍然是一个关键挑战。具体而言,具有浮动p区的结构缺乏有效的空穴注入通道。在高频开关过程中,这种缺陷会导致空穴恢复不足,从而导致严重的动态RON退化甚至完全导通失败。
为了探索一种平衡静态性能、动态可靠性和工艺可行性的综合解决方案,本研究提出了一种优化的Fin形p-NiO(Fin-pNiO)HEMT,并将其与E-pGaN HEMT进行了对比研究。我们深入分析了EF调制机制。关键的是,我们提出了一种栅极连接的双层Fin-pNiO策略来克服动态导通失败问题。该设计实现了快速的空穴重新注入,并验证了溅射p-NiO方案在综合功率性能上优于外延p-GaN方法。
本文的结构如下:第2节详细介绍了器件结构和校准的物理模型。第3节系统分析了静态优化机制,并通过提出的栅极连接设计解决了动态不稳定性问题。最后,第4节总结了本研究。

章节片段

器件结构和物理模型参数

图1(a)展示了所提出的AlGaN/GaN HEMT的3D示意图,其中包含嵌入式p-GaN(E-pGaN)结构。该器件的外延层由蓝宝石衬底、GaN缓冲层和Al摩尔分数为0.23的AlGaN阻挡层组成。两个p-GaN区域对称地嵌入GaN缓冲层中,以调节EF表示一侧p-GaN区域的宽度。详细的尺寸参数列在表1中。
图1(b)描述了...

静态击穿和导通电阻优化

首先,如图3所示,研究了E-pGaN HEMT的静态击穿特性。优化过程从几何尺寸开始,具体包括嵌入式p区域的长度()、厚度()和宽度()。为了量化这些参数对EF分布的影响,我们基于高斯定律建立了一个全面的3D电荷平衡模型。与简单的2D模型不同,这种类超结结构中的EF梯度由净电荷决定

结论

本研究通过提出Fin-pNiO结构,解决了E-pGaN HEMT的固有几何限制。分析建模证实,该结构与横向通道宽度的电荷平衡条件无关,与E-pGaN器件的严格几何依赖性不同。这种设计独立性使得电阻可以在不牺牲击穿电压的情况下显著缩放,从而实现了2.92 GW/cm2的优异功率优值。
此外,关键的动态...

CRediT作者贡献声明

赵建国:项目管理。程志群:项目管理。徐茹:验证、软件、项目管理、方法论、形式分析、数据整理、概念构思。王秀萍:撰写——审阅与编辑、初稿撰写。徐诺:撰写——审阅与编辑。张瑞豪:撰写——审阅与编辑

利益冲突声明

作者声明没有利益冲突。

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