摘要
提高种植密度是提高大豆产量的常见策略，但这通常会加剧冠层内的光照竞争，导致高密度种植时产量收益下降。因此，优化行距以改善冠层光照分布和光照利用效率是提高高密度种植产量的关键。本研究探讨了种植密度和行距对滴灌大豆系统中冠层光截获、光照分布动态及产量的综合影响。2024–2025年在新疆石河子进行了为期两年的田间试验，设置了三种种植密度（D1：210,000株/公顷；D2：330,000株/公顷；D3：450,000株/公顷）和两种行距模式（RS1：宽窄行交替，间距分别为20厘米和55厘米；RS2：均匀行距，为38厘米）。结果表明，种植密度决定了产量的基础水平，而行距则调节了光照利用情况，并在高密度条件下释放了产量潜力。在R6生长阶段，RS1处理方式使上部叶片的SPAD值比RS2处理方式提高了6.06%；在R5阶段，RS1处理方式使辐射利用效率（RUE）平均提高了6.44%。这种种植模式缓解了密集冠层中的光合作用下降现象，并带来了明显的产量优势。最高产量出现在D2处理方式下，其产量分别比D1和D3处理方式高出8.44%和6.71%。总之，将适中的种植密度与优化的宽窄行距相结合，可以改善冠层的光捕获和利用效率，从而协同提高产量和资源利用效率。这种方法为克服高密度大豆生产系统中的产量瓶颈提供了一种实用策略。
