摘要
二维材料在下一代电子技术和量子技术中具有巨大的潜力。然而，由于缺乏可扩展的转移技术，这些材料的全部潜力尚未得到充分发挥。这些技术需要同时实现高精度、确定性的放置，并提高成像质量，以确保无论是人工方法还是自动化方法都能进行准确的转移。在这里，我们提出了一种室温转移方法，该方法结合了光学级的N-BK7半球形透镜和聚二甲基硅氧烷（PDMS）压印系统，解决了转移精度与光学分辨率之间的基本权衡问题。我们的技术实现了三个关键突破，同时消除了任何热处理需求：（1）通过像差校正显著提高了成像分辨率；（2）显著提高了转移成功率；（3）与多种架构（包括图案化电极、蚀刻基板和纳米柱阵列）具有通用兼容性。我们的方法能够实现低至……的放置精度，并且完全兼容电动化转移装置。这使得可以选择性拾取目标材料，有效去除可能占用宝贵空间或在预图案化设备中导致电气短路的非目标物质，为可扩展生产范德瓦尔斯异质结构提供了一个变革性的平台。这一进展填补了实验室研究与工业规模制造二维材料设备之间的关键差距。
利益冲突
该工作的临时专利已经提交，专利申请正在进行中。
数据可用性声明
支持本研究结果的数据可向相应作者提出合理请求后获得。
