通过He-N2介质反应溅射技术制备高性能真空涂层：工艺-结构-性能研究

《Materials Research Bulletin》：Engineering High-Performance VN Coatings via He-N2 Mediated Reactive Sputtering: A Process-Structure-Property Study

　　

阿库拉·乌马马赫斯瓦拉·拉奥（Akula Umamaheswara Rao）|阿图尔·潘迪（Atul Pandey）|内哈·萨尔达纳（Neha Sardana）|帕里托什·杜贝（Paritosh Dubey）|维卡斯·萨克塞纳（Vikas Saxena）|阿米特·库马尔·查瓦拉（Amit Kumar Chawla）

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  氦气和氮气等离子体促进了高度定向的单相VN(200)涂层的形成。
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  优化的沉积工艺制备出了具有优异机械性能的致密VN涂层。
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  霍尔-佩奇（Hall-Petch）关系失效的临界晶粒尺寸被确定为18.62纳米。
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  V₂O₅镁铝榴石氧化层的形成赋予了材料自润滑的耐磨性能。