通过背面界面SnO2量子点沉积将平面n-Si/PEDOT:PSS混合太阳电池效率提升至14.8%

《Results in Surfaces and Interfaces》:Efficiency Enhancement to 14.8% in Planar n-Si/PEDOT:PSS Hybrid Solar Cells via Rear-Interface SnO2 Quantum Dot Deposition

【字体: 时间:2026年06月23日 来源:Results in Surfaces and Interfaces 6.2

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  近期,n-Si/有机异质结太阳电池(HSCs)因其低成本、相对高效率和器件制备简便而受到越来越多的关注。然而,其性能仍受限于背面电极和n-Si界面处的电荷复合。在此,研究人员采用一种简单、环保且经济有效的方法,合成二氧化锡(SnO2)量子

  
近期,n-Si/有机异质结太阳电池(HSCs)因其低成本、相对高效率和器件制备简便而受到越来越多的关注。然而,其性能仍受限于背面电极和n-Si界面处的电荷复合。在此,研究人员采用一种简单、环保且经济有效的方法,合成二氧化锡(SnO2)量子点(QDs)并沉积在n-Si的背面界面,这些量子点充当钝化、空穴阻挡和电子传导层。研究人员利用第一性原理计算评估了SnO2 QDs的钝化和电荷阻挡特性。经界面修饰的器件表现出高达14.8%的能量转换效率,主要归因于光生载流子的抑制。研究人员采用电化学阻抗谱(Electrochemical Impedance Spectroscopy)、X射线光电子能谱(X-ray photoelectron spectroscopy)和光电压衰减测量分析了界面修饰器件的性能,包括光伏性能、电荷转移和表面化学组成。这些发现为开发下一代n-Si/有机异质结太阳电池提供了一条有前景的策略。
**论文解读:通过背面界面SnO2量子点沉积提升平面n-Si/PEDOT:PSS杂化太阳电池效率至14.8%**

**研究背景与问题**

非晶硅和晶体硅因其高稳定性和转换效率(CE)主导光伏产业三十余年,但基于硅的光伏技术需要高温和复杂制备工艺,成本高昂。有机光伏电池(OPV)虽采用低成本材料和简便方法,但载流子迁移率低、吸收窄、稳定性差,导致CE较低。作为替代,n-Si/有机杂化太阳电池(HSCs)结合了有机和无机半导体的优势,其中n-Si/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩):聚苯乙烯磺酸盐(PEDOT:PSS)异质结太阳电池因低成本、合理效率和简便制备而备受关注。然而,其基准效率受限于n-Si与PEDOT:PSS的前界面、背面界面以及背面电极,主要问题包括电荷复合、钝化不足和载流子迁移障碍。现有研究中,前界面修饰(如SiOx或Al2O3层)取得了进展,但背面界面修饰研究较少,且常用的原子层沉积(ALD)和化学气相沉积(CVD)技术设备复杂、成本高。因此,需要开发一种简单、环保且经济的背面界面修饰方法,以抑制电荷复合、提升器件性能。

**研究内容与结论**

研究人员通过绿色溶液法合成二氧化锡量子点(SnO2 QDs),并采用旋涂法将其沉积于n-Si背面界面,形成钝化、空穴阻挡和电子传导层。结合第一性原理计算和多种实验表征,系统评估了SnO2 QDs的钝化及电荷阻挡机制。结果表明,界面修饰后的器件实现了14.8%的高功率转换效率(PCE),主要归因于背面界面光生载流子的有效抑制。这一策略为开发下一代高效、可溶液处理且成本低廉的n-Si/有机异质结太阳电池提供了新途径。该论文发表在《Results in Surfaces and Interfaces》。

**主要关键技术方法**

研究中采用的关键技术方法包括:(1)绿色溶液法合成SnO2 QDs(以二水合氯化锡和硫脲为前驱体,室温搅拌24小时);(2)旋涂法将SnO2 QDs沉积于n-Si背面,随后热蒸发铝电极和银栅电极;(3)第一性原理计算(采用SIESTA程序进行密度泛函理论(DFT)模拟,评估能带结构、态密度(DOS)、光学性质及界面稳定性);(4)X射线光电子能谱(XPS)分析表面化学组成;(5)扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)观察形貌与分布;(6)电化学阻抗谱(EIS)评估电荷转移与复合机制;(7)微波检测光电导(MDP)测量少数载流子寿命;(8)电流密度-电压(J-V)测试及外量子效率(EQE)测量评估光伏性能。

**研究结果**

**SnO2 QDs表征与化学键合**
XPS分析显示,Si 2p谱在102.1 eV处出现新峰,归因于Si–O–Sn键的形成,表明SnO2 QDs与n-Si之间形成了强化学键,该键作为钝化层减少了n-Si背面悬挂键。XRD确认SnO2 QDs具有四方金红石结构,SEM和TEM显示其均匀覆盖,尺寸约2.5–3.5 nm。

**DFT计算:光学与电子结构**
DFT计算表明,纯Si在可见光区具有高吸收系数,是主要光吸收层;纯SnO2透明度高、吸收弱,适合电子传输。在Si/SnO2异质界面处,电子耦合增强,紫外区吸收略有增加,界面导电性良好。总态密度(TDOS)和投影态密度(PDOS)分析显示,Si 3p与O 2p在价带边杂化,Sn 5s在导带边部分重叠,有利于电子从Si传输至SnO2,减少界面态。结合能(Ecoh)和形成焓(Efor)计算证实异质结构具有热力学稳定性。

**COOP与电荷密度分析**
晶体轨道重叠布居(COOP)分析显示,Si/SnO2界面处Si与O原子间存在强成键相互作用,促进了界面耦合和电荷转移。电荷密度差分图表明,界面处电子从Si侧迁移至SnO2中的O原子,形成内建电场和界面极化,有利于调节电子性能。

**器件光伏性能**
J-V测试表明,沉积SnO2 QDs(约6 nm厚)的器件实现了更高的开路电压(Voc=624 mV)、短路电流密度(Jsc=33.2 mA/cm2)和填充因子(FF=71.8%),PCE达14.8%,而未修饰器件仅为12.6%。暗J-V显示修饰器件具有更低的反向饱和电流密度(J0)和更小的理想因子(n=1.68),表明有效钝化降低了复合。肖特基势垒高度(Φb)增大,表明界面质量改善和载流子迁移驱动力增强。

**EIS与载流子寿命**
EIS Nyquist图显示修饰器件具有更大的半圆直径,表示更高的电荷复合电阻(Rrec)。利用Rrec和结电容(Cjun)计算少数载流子寿命(τ),修饰器件τ从21.6 μs提升至66.4 μs,证实SnO2 QDs钝化有效延长了载流子寿命。

**反射率与EQE**
反射率测量显示两种器件吸收光量相同,因为SnO2 QDs沉积于背面不影响前界面吸收。修饰器件的外量子效率(EQE)全波段提升,主要由于载流子收集效率提高和串联电阻降低。

**能带结构与工作原理**
能带图分析表明,PEDOT:PSS在前界面形成内建电位(Vbi)和正势垒(Φ+),阻碍电子向正面电极迁移。背面界面处,SnO2的导带(CB)位置接近n-Si的CB,电子迁移势垒可忽略;同时,SnO2的价带(VB)具有较大偏移(ΔVB),形成空穴阻挡层,有效抑制电荷复合。

**总结与结论讨论**

研究讨论部分强调了SnO2 QDs在背面界面同时起到钝化和载流子阻挡作用,通过形成Si–O–Sn键减少悬挂键,延长少数载流子寿命(从21.6 μs提升至66.4 μs)。DFT计算从理论上证实了SnO2 QDs更宽的带隙和更深的价带能量,有利于空穴阻挡和能带对齐。实验与理论相结合,验证了修饰器件在抑制光生载流子复合方面的有效性。

**研究结论翻译**
总之,通过在n-Si与背电极之间沉积二氧化锡量子点,异质结太阳电池的效率得到了显著提升。沉积形成Si–O–Sn键,如Si 2p XPS芯能级谱所示,从而形成钝化层,减少悬挂键,并将少数载流子寿命从21.6 μs延长至66.4 μs。界面修饰器件在背面界面表现出载流子阻挡行为,抑制了电荷复合,降低了反向饱和电流。SnO2 QDs的钝化和载流子阻挡效应通过实验和DFT计算得到证实。这些计算表明,SnO2 QDs具有更宽的带隙和更深的价带能量,从而能够在n-Si界面实现更有效的空穴阻挡和有利的能带对齐。因此,优化后的HSCs实现了14.8%的高PCE,Voc 为0.624 V。总体而言,这些结果为制备高效、可溶液处理且成本低廉的HSCs提供了一种实用方法。
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